NanoSpec II擴展了業界公認的NanoSpec系列的範圍和性能，引入了一種新型設計，具有自動化樣品對準，快速自動對焦和測量重複性優於1Å。
NanoSpec II結合Nanometrics功能強大的重新設計的光譜反射率分析軟體NanoDiffract®，自動圖案對準的影像處理和各種光學配置選項，使NanoSpec II實現了同類中最強大的薄膜測試系統的自動化。
標準特性
晶圓尺寸：50mm - 200mm 200mm - 300mm
樣品台控制 - 多個滑鼠點擊選項，全自動recipe控制
FFT厚度分析演算法
NanoDiffract®SR分析具有完整的堆疊多層和光學常數變化監測
基於影像處理的自動圖案化晶圓對準
可選特性
Nanostandard膜厚標準片
SECS/GEM自動通信協議
NanoDiffract SR分析工作站
強大且易用
NanoSpec II與前幾代NanoSpec產品的材料模型完全相容。此外，由Woolam 橢偏儀系統創建的許多色散模型可以導入和使用，無需轉換。
由最先進的建模和分析引擎NanoDiffract®提供支援，即使是複雜的多層堆疊也可以輕鬆測量。
支援使用者級別訪問的易用使用者介面允許創建全自動recipe - 包括圖案化晶圓上的圖案識別 - 以及手動測量。
多種光學配置選項使得該系統能夠在難以取樣的薄膜（低至30埃），非常厚的薄膜（高達130um）以及非常粗糙的表面上提供卓越的性能。
規格 | |||
光譜範圍 | 200-800nm | 450-1050nm | 500-800nm |
厚度範圍 | 35A-20um | 100nm-30um | 500nm-120um |
動態重複性/穩定性(1-sigma) | |||
3.5-10nm | <1.00Å | N/A | N/A |
10nm-100nm | <0.80Å | N/A | N/A |
100nm-500nm | <0.08% | <0.10% | N/A |
500nm-20um | <0.05% | <0.10% | <0.05% |
20um-30um | N/A | <0.10% | <0.05% |
30um-120um | N/A | N/A | <0.05% |
系統間一致性(最大厚度變化) | |||
125 A ±0.5% | |||
1,200 A ±0.2% | |||
10,000 A ±0.2% | |||
精度(厚度,具體以標準片為準) | |||
100-200 Å | ±5 Å | ||
300Å-1um | ±0.5% | ||
1µm-150µm | ±0.2% | ||
反射率 | |||
248 nm ± 0.50% (DUV) | |||
365 nm ± 0.50% (DUV) | |||
633 nm ± 0.50% | |||
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