半导体
集成电路工艺
曝光机

半自動光刻機

  • 产品型号：Model 800E
  • 制造原厂：OAI INSTRUMENTS

新的OAI型號800E半自動雙面光刻機，具有先進的功能和規格, 隨著800E的誕生，OAI在半導體與MEMS市場有了革命性的適用於研發與小規模量產的拳頭產品    


  • 半自動單/雙面對準曝光機

  • 波長220nm-405nm可選

  • 相容4-8inch

  • 可選近/中/遠UV及LED光源

  • Proximity 精度 3um

  • Soft contact 精度2um

  • Hard contact精度1um

  • Vacuum contact 精度0.8um

  • 自動補償,自動z軸升降

  • 雙通道光路回饋

  • 可選配納米壓印模組    


OAI/Model 800E
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