FilmTekTM CD光學關鍵尺寸系統是SCI針對1x nm設計節點及更高級別的全自動化，高通量光碟測量和高級薄膜分析的領先解決方案。該系統同時提供即時多層堆疊特徵和CD測量，用於已知和完全未知的結構。
FilmTekTM CD採用專利的多模式測量技術來滿足與開發和生產中最複雜的半導體設計特點相關的挑戰性要求。這項技術能夠測量極小的線寬，在10nm以下的高精度測量。
薄膜厚度範圍：0至150μm膜厚精度：NIST可溯源標準氧化物的±1.0Å100Å至1μm光譜範圍：190nm至1000nm（標準為220nm至1000nm）測量點尺寸：50μm光譜解析度：0.3nm光源：調節氘燈鹵素燈（2000小時壽命）探測器類型：2048圖元索尼線性CCD陣列電腦：多核處理器與Windows™7作業系統測量時間：約2秒（如氧化膜）
